EBET易博(中国)

CMP 设备将向着更高性能、更高效率、更智能化的方向（附报告目录）

1、化学机械抛光（CMP）设备行业概述

CMP 设备主要用于单晶硅片制造和芯片制造前道工艺，依托 CMP 技术的化学-机械动态耦合作用原理，顺利获得化学腐蚀与机械研磨的协同配合作用，实现晶圆表面多余材料的高效去除与全局纳米级平坦化——全局平整落差 5nm 以内的超高平整度；其是一种集摩擦学、表/界面力学、分子动力学、精密制造、化学/化工、智能控制等多领城最先进技术于一体的设备，是集成电路制造设备中较为复杂和研制难度较大的专用设备之一。

在集成电路制造所使用的全部种类半导体设备中，CMP 设备是使用耗材较多、核心部件有定期维保更新需求的制造设备之一，在晶圆厂使用 CMP 设备的过程中需要用到例如设备外部的抛光液、抛光垫等，以及设备内部长时间运行磨损的抛光头、清洗等单元的定期维保更新，且该等服务需求会随着厂商销售设备数量的增加而快速增长。因此 CMP 设备厂商通常也会基于自身设备及工艺技术向客户给予专用耗材销售和关键耗材维保等技术服务，在设备销售之外获取更长期稳定和更高盈利能力的服务收入。

2、CMP 设备市场规模及区域分布分析

全球市场：2018 年全球 CMP 设备的市场规模约为 18.42 亿美元，2013年-2018 年全球 CMP 设备年均复合增长率达到 20.11%。2019 年受全球半导体景气度下滑影响，全球 CMP 设备的市场规模约为 14.9 亿美元，较 2018 年下滑 19.1%。

2018 年全球 CMP 设备市场中，韩国市场规模最大，约为 4.74 亿美元，市场份额26%，中国大陆市场规模仅次韩国，约为 4.59 亿美元，市场份额 25%，北美地区规模约为 2.38 亿美元，市场份额 13%，居于第三。

相关报告：北京EBET易博(中国)信息咨询有限公司《2021-2026年化学机械抛光（CMP）设备行业投资前景预测报告》

2018 年全球 CMP 设备市场区域结构

资料来源：EBET易博(中国)

中国市场：与 2019 年全球 CMP 设备市场规模下降趋势不同，2019 年中国大陆地区的CMP 设备市场规模保持平稳，达到 4.6 亿美元的销售额，但大部分高端 CMP 设备仍依赖于进口。2013 年-2019 年中国大陆地区 CMP 设备年均复合增长率达到33.85%

国内 CMP 设备的主要研发生产单位有华海清科和北京烁科精微电子装备有限公司，其中华海清科是现在国内唯一实现 12 英寸系列 CMP 设备量产销售的半导体设备供应商，打破了国际厂商的垄断，填补国内空白并实现进口替代。

3、CMP 设备行业开展趋势

随着计算机、互联网、5G 通信技术的飞速开展，下游应用领域对高端芯片的需求日益强劲，集成电路向高集成度、多功能、低功耗和低成本方向开展，这对 CMP 技术提出了更高的要求，未来 CMP 设备将向着更高性能、更高效率、更智能化的方向开展。

报告目录：

第1章 化学机械抛光（CMP）设备行业开展环境分析

1.1 CMP设备行业界定及统计说明

1.1.1 CMP设备在半导体产业链中的地位

1.1.2 化学机械抛光（CMP）的界定与工作原理

（1）化学机械抛光（CMP）的界定

（2）CMP设备工作原理

（3）CMP设备的分类

1.1.3 本行业关联国民经济行业分类

1.2 中国CMP设备行业政策环境

1.2.1 行业监管体系及组织介绍

1.2.2 行业标准体系建设现状

（1）标准体系建设

（2）现行标准汇总

（3）即将实施标准

（4）重点标准解读

1.2.3 行业开展相关政策规划汇总及解读

1.3 中国CMP设备行业经济环境

1.3.1 宏观经济开展现状

1.3.2 宏观经济开展展望

1.3.3 行业开展与宏观经济相关性分析

1.4 中国CMP设备行业社会环境

1.5 中国CMP设备行业技术环境

第2章 全球化学机械抛光（CMP）设备行业开展趋势及前景预测

2.1 全球CMP设备行业开展历程及开展环境分析

2.1.1 全球CMP设备行业开展历程

2.1.2 全球CMP设备行业开展环境

2.2 全球CMP设备行业供需状况及市场规模测算

2.2.1 全球CMP设备行业供需状况

2.2.2 全球CMP设备行业市场规模测算

2.3 全球CMP设备行业区域开展格局及重点区域市场研究

2.3.1 全球CMP设备行业区域开展格局

2.3.2 重点区域CMP设备行业开展分析

（1）韩国

（2）美国

（3）日本

2.4 全球CMP设备行业市场竞争状况分析

2.5 全球CMP设备行业开展趋势及市场前景预测

第3章 中国化学机械抛光（CMP）设备行业开展现状与市场痛点分析

3.1 中国CMP设备行业开展历程及市场特征

3.1.1 中国CMP设备行业开展历程

3.1.2 中国CMP设备市场开展特征

3.2 中国CMP设备行业进出口状况分析

3.2.1 中国CMP设备行业进出口概况

3.2.2 中国CMP设备行业进口状况

3.2.3 中国CMP设备行业出口状况

3.3 中国CMP设备行业市场供需状况

3.4 中国CMP设备行业市场规模测算

3.5 中国CMP设备行业市场痛点分析

第4章 中国化学机械抛光（CMP）设备行业竞争状态及市场格局分析

4.1 中国CMP设备行业市场进入与退出壁垒

4.2 中国CMP设备行业投融资、兼并与重组状况

4.2.1 中国CMP设备行业投融资开展状况

4.2.2 中国CMP设备行业兼并与重组状况

4.3 中国CMP设备行业市场格局及集中度分析

4.3.1 中国CMP设备行业市场竞争格局

4.3.2 中国CMP设备行业国际竞争力分析

4.3.3 中国CMP设备行业国产化开展现状

4.3.4 中国CMP设备行业市场集中度分析

4.4 中国CMP设备行业波特五力模型分析

4.4.1 上游议价能力分析

4.4.2 下游议价能力分析

4.4.5 潜在进入者分析

4.4.6 行业市场竞争总结

第5章 中国化学机械抛光（CMP）设备产业链梳理及全景深度解析

5.1 CMP设备产业链梳理及成本结构分析

5.2 中国CMP设备行业上游供应市场解析

5.2.1 CMP设备行业上游原材料类型

5.2.2 CMP设备上游核心组件类型

5.2.3 CMP设备上游供应状况

5.2.4 上游供应对CMP设备行业开展的影响分析

5.3 CMP设备行业设计市场

5.4 CMP设备行业中游细分产品市场分析

5.5 中国CMP设备行业下游应用场景需求解析

5.5.1 半导体制造对CMP设备的需求分析

5.5.2 多晶片模组制造对CMP设备的需求分析

5.5.3 微电机制造对CMP设备的需求分析

5.5.4 其他场景对CMP设备的需求分析

第6章  全球及中国化学机械抛光（CMP）设备代表性企业开展布局案例研究

6.1 中国CMP设备代表性企业开展布局对比

6.2 全球CMP设备行业代表性企业布局案例

6.2.1 美国Applied Materials（应用材料）

（1）企业开展历程及基本信息

（2）企业开展状况

（3）企业CMP设备业务布局现状

（4）企业CMP设备业务投融资状况

6.2.2 日本荏原

（1）企业开展历程及基本信息

（2）企业开展状况

（3）企业CMP设备业务布局现状

（4）企业CMP设备业务投融资状况

6.2.3 美国Rtec

（1）企业开展历程及基本信息

（2）企业开展状况

（3）企业CMP设备业务布局现状

（4）企业CMP设备业务投融资状况

6.3 中国CMP设备代表性企业开展布局案例

6.3.1 A公司

（1）企业开展历程及基本信息

（2）企业开展状况

（3）企业CMP设备布局状况

（4）企业CMP设备布局的优劣势分析

6.3.2 B公司

（1）企业开展历程及基本信息

（2）企业开展状况

（3）企业CMP设备布局状况

（4）企业CMP设备布局的优劣势分析

6.3.3 C公司

（1）企业开展历程及基本信息

（2）企业开展状况

（3）企业CMP设备布局状况

（4）企业CMP设备布局的优劣势分析

6.3.4 D公司

（1）企业开展历程及基本信息

（2）企业开展状况

（3）企业CMP设备布局状况

（4）企业CMP设备布局的优劣势分析

6.3.5 E公司

（1）企业开展历程及基本信息

（2）企业开展状况

（3）企业CMP设备布局状况

（4）企业CMP设备布局的优劣势分析

第7章 中国化学机械抛光（CMP）设备行业市场前景及投资策略建议

7.1 中国CMP设备行业开展潜力评估

7.1.1 行业开展现状总结

7.1.2 行业影响因素总结

7.1.3 行业开展潜力评估

7.2 中国CMP设备行业开展前景预测

7.3 中国CMP设备行业开展趋势预判

7.4 中国CMP设备行业投资风险预警与防范策略

7.4.1 中国CMP设备行业投资风险预警

7.4.2 中国CMP设备投资风险防范策略

7.5 中国CMP设备行业投资价值评估

7.6 中国CMP设备行业投资机会分析

7.7 中国CMP设备行业投资策略与建议

7.8 中国CMP设备行业开展建议